矩形XH
从Gencoa提供市场领先的材料效率新高XH目标使用磁控管150毫米宽平面溅射靶，和一个干净的目标表面，以提供高品质的薄膜和长寿命的目标。
所述XH源结合了所有的与较长的寿命的附加益处Gencoa平面磁控管的标准功能，并降低材料成本。所述XH磁控管旨在使用昂贵的靶的材料或其中更高的系统是必需的正常运行时间的应用程序。
为XH磁控管通常使用如下：
- 的两三倍的时间之间的扩展运动长度比标准源
- 较低目标材料成本 - 高的靶使用（比标准源的双重目标利用以上，50％以上，一个HY源的靶使用）
- 对于难以从可旋转靶材的形状的材料
- 对于需要避免水以真空密封材料（例如锂）
- 对于ITO的低电压高靶使用溅射
- 对于ITO瓷砖HOT目标选项
- 银的建筑玻璃的溅射对上银靶的成本节约50％的基于150毫米范围内的目标，25mm厚
- 对于>200公斤溅射银材料的建筑300毫米宽XH选项
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