矩形XH.

来自GencoA的新XH高目标磁控管为150毫米宽平面溅射靶标提供市场领先的材料效率,以及一种清洁的目标表面,提供高质量的薄膜和长目标寿命。

XH源相结合了Gencoa Planar磁控管的所有标准特征,增加了较长的寿命和更低的材料成本。XH磁控管旨在使用昂贵的目标材料或需要更高系统正常运行时间的应用。

通常用于XH磁控管的用途如下:

  • 扩展竞选长度在两到三倍之间的长度超过标准来源
  • 较低的目标材料成本 - 高目标使用(标准源的目标使用量增加,超过50%的目标使用HY源)
  • 对于从可旋转的目标形状难以的材料
  • 对于需要避免水真空密封的材料(例如锂)
  • 对于具有高目标使用的ITO低压溅射
  • ITO瓷砖的热门目标选项
  • 银色建筑玻璃溅射50%的银色目标成本节约350毫米宽的目标,25mm厚
  • 建筑300mm宽XH选项> 200千克溅射银材料

画廊

接下来的活动

  • 2021年6月9日- IOP等离子体表面和薄膜会议2021
  • 2021年6月14日至18日- Hipims 2021.
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