矩形XH
来自Gencoa的新型XH高靶用磁控管为150mm宽平面溅射靶提供了市场领先的材料效率，并提供了一个清洁的靶表面，以提供高质量的薄膜和长靶寿命。
XH源结合了Gencoa平面磁控管的所有标准特性，具有更长的使用寿命和更低的材料成本。XH磁控管的目标是使用昂贵的目标材料或需要更高的系统正常运行时间的应用。
XH磁控管的典型用途如下:
- 扩展的活动长度比标准来源的长度长两到三倍
- 降低目标材料成本-提高目标使用量(标准源目标使用量的两倍以上，HY源目标使用量的50%以上)
- 对于难以从可旋转的目标形状获得的材料
- 用于需要避免水真空密封的材料(如锂)
- 用于ITO低电压高靶溅射
- ITO瓷砖的热目标选项
- 建筑玻璃镀银节省50%的成本，基于150mm宽的目标，25毫米厚
- 建筑300mm宽XH可选>200公斤溅射银材料
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