模拟

目标侵蚀

Gencoa与利物浦大学之间的合作导致了一个蒙特卡罗代码,可以预测任何磁控管几何形状和磁阵列类型的等离子体分布和目标侵蚀。

该代码使用由磁场的3D有限元建模提供的数据来预测在3D中的目标表面上的电子移动和电离冲击。

该软件允许直接仿真目标侵蚀,从而消除了在设计过程中进行等离子体测试的需要。这种强大的工具允许优化现有的磁性设计以及具有最小测试和风险的新磁性设计。

磁性建模

使用2D和3D磁性建模是仿真过程中的第一阶段。它解决了磁性问题,并在目标表面上的任何位置提供了精确的磁数据,例如场强和电子轨迹。

电子密度分布

基于磁环的形状,利用概率分布产生初始位置。在开始电子中,使用温度5eV的Maxwellian分布产生,而离子在室温下。在过程中,颗粒如进一步描述的那样彼此相互作用,并且它们与边界相互作用 - 在靶处与离子轰击产生二次电子,在对称的平面上,颗粒镜像到几何的另一半的平面上而在另一个边界颗粒上消失。在它们在电磁场的影响下经历运动时,如图所示记录其位置。根据空碰撞技术生成碰撞。不是评估轨迹计算的每个步骤的碰撞概率,而是从最大截面计算自由飞行的时间(参见右)。

电离冲击和腐蚀分布

下面的示例在电离分布和目标侵蚀深度方面说明了扫描FFE型等离子体。在任何时间点,可以估计腐蚀,然后结果随着时间的平均而平均,以提供最终目标侵蚀并优化磁性。

40%的百分比保证

这种型号已经充分利用了。例如,如果未实现至少40%的目标(按重量计),GencoA对高产磁性(HY)磁性的性能进行了充满信量,这是对高产(HY)磁性的性能。在正常操作条件下,基于100,125,150和200mm宽的粘合目标类型。实际的目标使用应为50-60% - 任何小于40%的东西,您将获得退款的HY磁性补充剂的成本。

FE模型

Gencoa目前使用2D和3D有限元建模包,以创建特定于客户要求的磁场设计。考虑的因素包括磁控管尺寸和类型,目标材料,目标厚度,工艺要求和真空室中可能存在的任何铁磁性组分。一旦设计了磁阵列,产生磁场图片,从而可以获得有价值的信息,例如磁场强度和形状,平衡水平和侵蚀点。然后使用该信息优化例如目标侵蚀,涂覆均匀性,阳极位置,基板位置和基板轰击。为创建完美的设计,需要考虑许多因素,需要几个设计的任何设计迭代。

由于一些GencoA磁性设计的复杂性,使用3D磁模拟的使用至关重要。标准磁性是一个简单的2极设计,在上面看。高收率(HY)型磁性是一种更复杂的多极系统,可以更好地控制等离子体以改善目标使用。矩形和圆形FFE型磁控管具有高速扫描磁场,需要3D时间分辨分析,以提供该字段的图片并使设计能够优化。

GencoA还模拟和设计其他制造商阴极的磁系统。这些可以是要改装到现有磁控管中的磁性包装,以提高产品的性能,以便靶用使用或涂覆均匀性。

已经产生了用于可旋转磁力琴的磁性包装设计的改进,以减少转弯处的增强的目标腐蚀,可以作为任何制造商可旋转的磁控管供应为改性磁棒。

磁模型的产生是优化过程中的第一阶段。然后使用数据来预测3D中的等离子体分布和目标侵蚀,这确保了最佳目标使用。

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Gencoa的主要设施位于南利物浦。点击指示>