半导体

半导体是使用PVD技术的最大和最长的行业部门。雷竞技app下载官方版

在初始的界面上使用蒸发技术来形成层,但由于其固有的可控性而迅速采用了基于溅射的解决方案。该部门传统上使用了“群集工具”或“内联”方法。两种方法仍然广泛使用,并且仅通过在涂覆(簇工具)期间晶片是静止的,或者在涂层(在线)期间移动磁控管来分化。

群集工具解决方案具有超过50个商业产品的WIDESPEAD。

Gencoa的圆形磁控磁阻为半导体市场提供了很好的选择。

  • 3G圆形磁控管具有小的占地面积,并且具有±45°角调节,可以轻松设置群集工具
  • 用于任何可用晶片尺寸的圆FFE,目标直径高达600mm
    • 12“FFE 8”晶片,均匀性为1-3%
    • 高目标使用完美的珍贵目标材料
    • 具有小目标基质分离的高均匀性
    • 可以溅射反应性SiO2,Al2O3,SIN工艺
  • SpeedFlo反应流量控制器,用于完美控制的反应过程
  • OPTIX进行过程优化,减少时间减少,过程知识

如果您对半导体市场的特定流程有更多疑问,请联系我们的专家,我们将为您的概念和涂层找到最佳解决方案。

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接下来的活动

  • 2021年6月9日- IOP等离子体表面和薄膜会议2021
  • 2021年6月14日至18日- Hipims 2021.
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