矩形VTFLEX

具有无限的灵活性调整溅射层的均匀性至低于1%的范围,Gencoa VTF是VTech系列产品的最新添加,提供简单和精确的薄膜均匀性调整。

Gencoa公司的VTFLEX磁控管能够在等离子体跑道两侧的小段上独立调节磁场强度。不同的区段由手动数字定位器调整,增加或减少局部区域的场强。这些碎片可以向任何一个方向收缩或倾斜,这使得赛道上的场地强度发生平滑或“剧烈”的变化。

调整电场强度的能力将导致等离子体密度的变化,从而导致溅射到衬底上的材料数量的变化。由于强度的可能变化是广泛的,VTF磁控管可以用于校正在线系统末端的均匀性,或作为一个独立的源提供比标准更好的均匀性。

总的灵活性允许相对容易地实现小于1%的均匀性。还可以在过程中进行调整,以校正随时间均匀变化的偏移。

VTF磁控管在需要大面积射频溅射过程的高均匀性时特别有用。更常见的直流和MF型功率模式可以调整,以达到某些产品更高的均匀性要求。

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