矩形VTFLEX

Gencoa VTF无限地调整溅射层均匀性的均匀性,是VTECH系列产品的最新添加剂,可提供简单,精确的膜均匀性调节。

Gencoa的VTFLEX磁控杆具有在等离子体赛马两侧的小段上独立调整磁场强度的能力。通过手动数字定位器来调整不同的段,该定位器增加或降低了局部区域的田间强度。这些段可以在任一方向上缩回或倾斜,从而可以使赛道上的田间强度平滑或“锐利”变化。

调节场强的能力将导致血浆密度的变化,从而导致溅射到基板上的材料量。由于强度的可能变化是广泛的,因此可以使用VTF磁控管在线系统结束时校正均匀性,或者作为独立源以比标准提供更好的均匀性。

总柔韧性允许相对轻松地达到均不到1%的均匀性。在整个过程中也可以进行调整,以随着时间的推移纠正均匀性的变化。

在需要大面积RF溅射过程的高均匀性的情况下,VTF磁控杆特别有用。更常见的DC和MF型功率模式可以进行调整,以达到某些产品所需的较高均匀性。

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