矩形VTFLEX

具有无限的灵活性,溅射层的均匀性调谐到子1%范围内,Gencoa VTF是最新除了产品,它提供容易和精确的膜均匀性的调整易达范围。

Gencoa的VTFLEX磁控管具有磁场强度独立于小片段下来等离子跑道两侧的能力来调整。不同段是由增加或减少了在局部区域中的磁场强度的手动数字定位器调节。所述段可以缩回或在任一方向,这允许平滑或“尖锐”场强在跑道变化倾斜。

调整电场强度的能力将导致改变等离子体密度,并因此溅射到衬底上的材料的量。如强度的可能变化范围广泛,该VTF磁控管可以用来校正均匀性直列系统的端部或作为一个独立的源提供比标准好得多的均匀性。

总灵活性允许相对容易地实现低于1%均匀性。调整也可以在过程中的均匀性的变化正确随时间期间进行的。

的VTF磁控管是在需要从大面积RF溅射工艺高度均匀是特别有用的。更常见的DC和MF型功率模式可以likelise被调整,以达到更高的均匀要求某些产品。

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