血浆treater

Gencoa为各种应用提供了一系列基于等离子体的预处理和蚀刻设备。

设备分为不同的功率模式和磁性设计:

  • 高压(>+1kV)DC低电流倒磁铁型离子源
  • 基于DC Magnetron的血浆预处理 - 用于塑料网的高功率预处理的磁控管设备
  • AC类型双阴极类型等离子体塑料网预处理预处理
  • 阳性直流和脉冲DC基于金属Web基板的倒数磁铁底物离子蚀刻剂
  • AC类型PECVD来源可用于各种CVD沉积
  • 所有材料类型的HIPV+正电流脉冲类型预处理
  • RF功率

基于DC Magnetron的血浆预处理 - 用于塑料网的高功率预处理的磁控管设备

基于平面磁控管的溅射设备配置为提供快速移动的Web材料的高功率等离子体激活,以改善涂层粘附。通常,等离子体功率模式为直流或脉冲DC。目标材料是不锈钢或钛,以降低溅射速率。

如果预处理源位于放松区域,压力约为10E-2MBAR,在源周围使用额外的绝缘材料,以防止流浪排放。

气体喷射应位于目标区域,可选的气体遏制箱也可以限制涂层材料到放松区域的逃逸。容器易于清洁,并设计以保留涂层材料以防止碎屑。

AC类型双阴极类型等离子体塑料网预处理预处理

血浆预处理的一种更伟大的类型是双电极AC的排放类型。GENCOA AC血浆疗程结合了磁性激活,引导电子的高压AC类型开关功率以及对底物表面的等离子体。双电极AC型等离子体在处理完全反应性模式的稳定时,可以处理较重的量子,从而更强大。

电极是水冷却的不锈钢管,并且可以在较大源进行磁角度调节时获得不同尺寸的源。

AC类型PECVD来源可用于各种CVD沉积

使用相同的切换AC类型电源模式用于等离子体CVD源,可用于低轰炸HMDSO聚合物(例如激活)和高轰炸SIO2类型层的创建。来源使用磁性增强功能,是两个独立的电极,因此可以针对不同的应用调整位置。另外,针对不同的应用调整了磁耦合和交流放电电压。

hipv+所有材料类型的正电流脉冲类型预处理

嘻哈+是基于HIPIMS类型功率模式的令人兴奋的新开发,其差异是应用正偏置电压。正电压脉冲带从工艺室向源的电子,并排除在高能量和高电流密度下轰击底物的正离子。来源仍处于Gencoa内部开发阶段,但在Optix等离子气体中使用。该方法受专利申请的约束。

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