光学的

光学涂层可分为“大规模”和“小规模”。为简单起见,我们将“精密”光学与小规模竞技场联系起来,其中光学层通常在尺寸高达约20英寸(0.5米)的区域上产生的非常高的控制和均匀性。其他大规模的光学效应如窗玻璃和显示涂层,具有较低的精度水平,并将覆盖在玻璃涂层部分中。

精密光学元件领域涵盖了各种应用领域,但光学效果可以分解为不同类型:

  • 抗反射AR,简单的可见或波长特异性
  • 镜子,金属,电介质,增强和保护
  • 二向色和极化过滤器
  • 光谱选择性边缘过滤器

所有这些类型的涂层的共同方面是需要产生透明多层结构。使用各层的不同层厚度和不同的折射率,可以构建涂层结构以产生所需的光学效果。现代软件计算方法和仿真方法可以在沉积实际涂层之前设计结构和光学响应。在光学设计方面是一个成熟的领域,但实际的图层创造仍然非常苛刻。

溅射不是创造这些层的唯一方法,实际上,更重要的方法是基于电子束蒸发与基板距离和基板操纵的大源。提供额外的能量和层/界面平滑等离子体辅助来源提供同时轰击。这些电子束方法是传统的滤光器制造方法,然而,溅射现在以与半导体工业转向溅射沉积的类似方式越来越明显。溅射通常与底物分离的低(2“-10”)靶标一起使用,并且通常不需要额外的等离子体源以进行额外的能量。为了保持层之间的尖锐界面,需要大的入射角,这导致“战斗”为这种精密光学装置创造了非常高的均匀性。有许多专有方法来生产这种均匀层,通常使用以下方法中的一种或多种方法:

  • 基板操纵
    • 1,2或3轴
    • 恒定速度
    • 变速
    • 固定或变量倾斜
  • 均匀性面具
    • 静态的面具
    • 动态的
  • 系统几何
    • 源于基板中心和相对角度
    • 自定义侵蚀配置文件

无论哪种方法用于创造所需的均匀性,通常在反应气体环境中进行氧化物层的沉积。为了增加速率并减少循环时间,目标通常在“转换”模式下运行。这使得溅射屈服高,而使用正确的反应气体水平用于维持所需的化学计量。这是一个高度不稳定的过程,并且需要反馈气体控制器,例如SpeedFlo或非常高的系统泵送到滞后曲线并在过渡区域中产生一些稳定性。Gencoa是反应溅射环境的磁控设计专家。GencoA可以提供以互补方式操作的每个基本元素的解决方案,以提供平滑和高速的过程。精密光学应用程序的基本要素包括:

  • 低水平的目标重新存款(或FFE用于零重新存款)
  • 低工作电压和压力(HS)
  • 电浮动和水冷阳极
  • 定制侵蚀配置文件
  • SpeedFlo反应气体控制
  • 涂层均匀性模拟
  • 用于额外离子辅助的磁性设计

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