线性离子源

GencoA的线性离子源是在薄膜沉积之前的预清洗聚合物和玻璃基板的稳健和柔性的方法。等离子体射流产生将基材冲击到燃烧的烃并激活表面以促进沉积膜的粘附性。

强烈的等离子体射流通过磁场和电场的组合产生窄间隙,气体或气体通过该窄间隙。直流电源模式可以在1.5-3kV范围内施加典型电压,以提供“高”影响等离子体预处理。使用纯氩气产生最有效的等离子体清洁,但可以使用任何气体组合。等离子体也可用于通过气相沉积和聚合。Gencoa离子源具有石墨阳极和阴极保护的独特特征,以减少源头源于低水平的侵蚀。基于石墨的硬件是其他类型的等离子体源的标准,但只有GencoA具有线性离子源。

鲁棒且易于使用的设计,可在任何长度和各种内部,外部或悬臂安装座中提供。由于放电电流的放电电流长度超过1A,不建议使用IM系列或非常高的速度腹板运动。GencoA为高功率磁性增强等离子体产生电极提供一系列不同的磁控管基础解决方案。

主要特征

  • 优化的磁场以在标准溅射压力下产生准直的等离子体束
  • 自动调节气体保持恒流和电压 - 多气体自动控制
  • 石墨阳极和阴极以保护基材免受污染,提供长寿组件
  • 所有离子源上的RF标准电绝缘
  • 直接冷却阳极和阴极 - 零件的快速切换
  • 易于切换阴极部件,为较低电压操作提供多个磁阱,或聚焦光束
  • 电压调节电源,气体调节反馈始终保持相同的电流

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