圆形离子源

Gencoa的IMC75是无缝和自中和圆形离子源,标志着离子蚀刻的新一代。

IMC75具有长期的维护周期 - 无论是在反应和惰性的环境中 - 并且运行范围高达90mA,高达3kV。

没有污染,使产品适用于半导体应用。其他应用包括基板预清洁,离子辅助,蚀刻/纹理和PAPVD沉积。

IMC75易于装配,1“轴安装和外径为5”,是Gencoa新型3“和4”圆形侵蚀磁控管的理想对。

主要特征

  • 反向磁控管离子束
  • 自中和离子束
  • 大压力范围内的工作压力(E-4至E-3曼巴)
  • 倾斜头 - 离子角度控制
  • 稳定的离子束电流和离子能量分布
  • 反馈控制
  • 可以提供各种气体饲料
  • 没有污染
  • 适用于半导体工业

IMC75离子蚀刻应用

  • 纳米纹理
  • 涂层清除
  • 改善涂层粘附
  • ITO和银沉积援助
  • PACVD - DLC沉积
  • 离子束沉积

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