泻流室
脉冲裂解器喷射室是Nano4Energy和Gencoa之间的协作开发，并且是用于单栈溅射，硒化掺入/硫化的创新解决方案。
一个脉冲喷射室到处理的夹杂物使材料如硒和硫的金属的溅射过程中被引入，允许Se和S中的应用领域，如PV太阳能电池（CIGS过程）的受控注射和分散。
通过使用与Speedflo一起喷射室，高度反馈控制可通过输入从该过程内的传感器来实现的。
主要特点
- 气体的精确控制
- 响应和快速主动阀
- 使用Speedflo动态反馈控制
- 主动重现的反馈控制
- 气相注入和分散
应用领域包括CIGS，用于阻挡层单体蒸气和用于OLED的有机蒸气。
在脉冲饼干积液细胞更多信息可以在Gencoa的9月份的版本中找到技术重点。
SES传感器
Gencoa已经开发安装在真空腔室壁上的方便传感器专门用于测量Se或S的真空腔室内部的水平。它是一种化学式传感器，其提供的电压变化作为硒水平腔室内变化。
硒传感器比感测硒递送的变化的石英晶体监视器更灵敏和可靠。
该传感器可被用于经由Gencoa Speedflo控制器或自己PLC /加热器控制器在腔室中的硒含量的反馈控制的任何过程。
与PLC，OPC服务器或窗口的接口Speedflo控制器接口以显示的信号，并控制传感器的功能。反馈模式经由硒传送源来自动调节所述硒在一定的水平也是可用的。使用可以是Gencoa高速硒源脉冲喷射室PEC，或通过使用一个带阀喷射室，或通过温度反馈控制的unvalved细胞 - 较慢的速度硒或S调节。
好处
- 化学传感器 - 硒或硫的化学浓度的直接测量
- 更低的成本相比其他方法
- 非侵扰，附接至腔室壁
- 产出的带阀的蒸气源的快速反馈控制例如一个电压该Gencoa PEC
- 整合可用的传感器＆反馈控制包闭环控制
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