研发商业服务

Gencoa自1994年以来一直在创造创新的真空工艺。在这段时间里,已经安装了内部技能和设备,这在发展的范围和速度方面是无与伦比的。

实际服务包括PVD和PECVD层开发,等离子体蚀刻/清洗研究,以及真空和大气的化学传感。

仿真和设计服务包括为晶圆上不同的层特性重新设计磁性封装,以及为不同的工艺和系统类型建模磁场和层均匀性。

我们拥有一支经验丰富的研发团队,在二维和三维建模、电子、软件设计、过程反馈控制、光谱化学传感、等离子体建模和测量、二维和三维零件的PVD和CVD层创建、表面蚀刻和清洁等方面拥有丰富的经验。

Gencoa有8台真空显影机,包括在载玻片或50mm直径的晶片上的小规模涂层,0.5m的在线玻璃,1.2m长的3D零件,以及2.5m长的等离子体测试和处理。

工作范围可以从新概念到试生产,可以在一天内完成,也可以涉及持续数月的项目。除了内部开发之外,员工还可以在客户现场进行最终流程调整和产品测试/员工培训。

请讨论与新产品或现有产品改进有关的要求接触Gencoa

下面列出了一些最近进行的流程工作的例子,突出了我们的一些专业领域:

  • 高压等离子清理玻璃上的碎片
  • 透明耐磨大窗涂料研制
  • 低电压(180V)溅射ITO从可旋转目标
  • 手机显示屏上的抗刮透明碳(与Nano4Energy合作的主要领域)
  • 氘遥感(基于OPTIX)
  • 从大气中感知大麻素(基于OPTIX)
  • 汽车电池泄漏检测(基于OPTIX)
  • 大型天文望远镜层均匀性的模拟
  • 视觉显示器、食品包装和保健产品上的高杀菌涂层(主要活动领域)
  • 一种新型的离网发电层叠技术
  • 3D零件和表面的快速等离子体蚀刻(与N4E合作)
  • 微电子层的应力控制
  • 用于200和300mm晶圆涂层改进的磁性设计和测试(主要区域)

成功是技能、设施和速度的结果。在真空沉积和等离子体工艺方面,我们在所有领域都很优秀。

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