圆形磁控管

Gencoa提供全面的圆形磁控管系列,满足从研发到半导体生产的应用。配置的广泛选择导致解决方案具有挑战性的实际过程的需求。

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第三代高压源为2“到5”目标直径,内部气体喷射,间接或直接目标水冷却和±45°倾斜调整为标准。

标准的圆形

对于直径为6”-16”的靶材,Gencoa提供了一种成熟的圆形磁控管设计,适用于更大面积的涂层。

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这是一种独特而强大的工具,通过使用电机驱动的动态等离子体扫描实现了溅射层的高速率沉积和高目标利用率。

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独特的Vtech磁控管允许应用不同的磁场特性。可用于2”到6”的靶径。

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