活跃的阳极

Gencoa率先使用可旋转磁控管和辅助阳极之间的电子磁引导来提高工艺性能,并获得了专利。像任何电路一样,等离子体需要一种将电子电流返回到阳极的方法来保持稳定和均匀。

平面磁控管具有周围的暗空间屏蔽以收集等离子体电子。可旋转的磁控管不使用具有引线GencoA的暗空间屏蔽,以将该方法开发到磁导向电子至有效阳极 - 所谓的有源阳极。活性阳极连接到地球并使用磁捕集和气体喷射到引导电子和气体激活。

好处

  • 较低的温度沉积 - 通过在DC放电中由AA收集的100%等离子体电子进行25%的基板加热
  • 开关方波双阴极布置中的AA导致与AA的交流电源模式相比的30%的热量降低
  • 更好的均匀性-电子有一个线性均匀的地球返回在目标寿命期间没有漂移
  • 较低的缺陷 - 由于更好的等离子体稳定性,有源阳极减小弧和因此缺陷
  • 较高的胶片密度 - AA为更密集膜产生基材的增强离子轰击
  • 更硬的薄膜 - 例如AA使玻璃上的溅射碳涂层的硬度加倍至25gPa
  • 沉积使用AA和脉冲或交流电源模式的低应力 - 阳性和阴性之间的内应力和基板轰击循环大大降低
  • 低电阻率ITO层由于损坏等离子体较低的等离子体 - 当阳极偏置时溅射电压的降低

AC与活动阳极的反应过程

AA通常连接到DC型电源的正面,或者在使用切换交流型功率模式时连接到地球。在向阳极施加正电压的情况下,目标的阴极电压可以与阳极电压相同的比例移位。这允许目标放电可降低80伏。这是从可旋转目标的ITO的低压溅射的理想选择。下面的视频中示出了一个例子。

AC与活动阳极的反应过程

在两个可旋转磁控管之间使用AC功率对于反应性氧化物层和其他介电材料的高速率沉积是常见的。在两个靶标之间添加接地的活性阳极可以提高过程的稳定性,因此减少了缺陷。随着电子被引导到阳极的情况下,改善了均匀性而不将基材浸入等离子体中。

当分析膜结构的标准AC对阴极和添加的阳极时,改善了层的密度。另外可以将较厚的层沉积,因为在层的内应力降低,改善对基材的粘附性。

DC和脉冲直流非反应性工艺,具有有源阳极

对于DC动力等离子体,活性阳极提供了由基板移动或腔室壁涂覆不干扰的长期和均匀的电子收集。有益效果在目标长度和长时间长时间均匀均匀。AA还将降低沉积的温度,因为在阳极中收集所有电子并不有助于额外的基板加热。

作为应用示例,当批量金属化的塑料部件时,塑料的分散可以导致“半反应”沉积类型并覆盖阳极表面。另外,如果使用HMDSO等离子体激活沉积来密封涂层部分,则腔室表面将变得涂覆。通过ARGON通过活动阳极将使长期有故障操作。

具有活性阳极的直流和脉冲直流反应工艺

如果所得的涂层电绝缘,则使用具有反应气体的脉冲DC的使用可能是有问题的 - 导致“消失的阳极”效果作为腔室,并且所有部件覆盖氧化物材料。有源阳极可防止其允许任何反应过程以稳定地运行脉冲DC电力作为AC电力操作的替代方案。优点在于增强的均匀性,而且使用单身以及双重目标。

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