活跃的阳极

GencoA已经开创了并获得了可旋转磁控管和辅助阳极之间的电子磁引导来改善工艺性能。与任何电路一样,等离子体需要将电子电流返回到阳极以保持稳定性和均匀性的手段。

平面磁控管具有周围的暗空间屏蔽以收集等离子体电子。可旋转的磁控管不使用暗空间屏蔽,该暗空间屏蔽具有引线GencoA,以将该方法开发到磁导向电子到有效阳极 - 所谓的有源阳极。活性阳极连接到地球并使用磁捕集和气体喷射到引导电子和气体激活。

好处

  • 较低的温度沉积 - 通过DC放电中的AA收集的100%等离子体电子,用于25%的基板加热
  • 开关方波双阴极布置中的AA导致与AA的AC电源模式相比,减少30%的热量降低
  • 更好的均匀性 - 电子在目标寿命期间没有漂移的线性均匀的地球回报
  • 较低的缺陷 - 由于更好的等离子体稳定性,有源阳极减少弧和因此缺陷
  • 较高的胶片密度 - AA为密集薄膜产生基材的增强离子轰击
  • 更硬的薄膜 - 例如AA使溅射碳涂层的硬度加倍玻璃上的溅射碳涂层至25GPa
  • 沉积在AA和脉冲或交流电源模式下沉积的低应力 - 阳性和负面之间的内应力和基板轰击循环大大降低
  • 低电阻率ITO层由于损坏等离子体较低的损坏 - 当阳极偏置时溅射电压的降低

具有活动阳极的交流反应过程

AA通常连接到DC型电源的正面,或者在使用切换交流型功率模式时连接到地球。在向阳极施加正电压的情况下,目标的阴极电压可以与阳极电压相同的比例移位。这允许目标放电可降低80伏。这是从可旋转目标的ITO的低压溅射的理想选择。一个例子在下面的视频中显示。

具有活动阳极的交流反应过程

在两个可旋转磁控管之间的使用AC功率对于反应性氧化物层和其他介电材料的高速率沉积是常见的。在两个靶标之间添加接地的活性阳极可以提高过程的稳定性,因此减少了缺陷。随着电子被引导到阳极的情况下,改善均匀性而不将基板浸入等离子体中。

当分析膜结构的标准AC对阴极并且添加的阳极的结构时,改善了层的密度。另外可以沉积较厚的层,因为在层的内应力降低,改善对基材的粘附性。

具有活动阳极的直流和脉冲直流非反应过程

对于DC供电等离子体,活性阳极提供了长期和均匀的电子集合,其不受衬底移动或腔室壁的涂层扰乱。有益效果均以更好的均匀性,既较为均匀,均在目标长度和长时间长时间。AA还将降低沉积的温度,因为在阳极中收集所有电子并不有助于额外的基板加热。

作为应用示例,当塑料部件的批量金属化时,塑料的分散可以导致“半反应”沉积类型并覆盖阳极表面。另外,如果使用HMDSO等离子体激活的沉积来密封涂层部分,则腔室表面将被涂覆。通过ARGON通过活动阳极将能够长期故障操作。

具有活性阳极的直流和脉冲直流反应工艺

如果所得涂层是电绝缘的,则使用具有反应气体的脉冲Dc的使用可能是有问题的 - 导致“消失的阳极”效果作为腔室,并且所有部件都覆盖在氧化物材料中。活性阳极可防止其允许任何反应过程以脉冲DC电力稳定地运行,作为AC电力操作的替代。优点在于增强的均匀性,而且使用单一以及双重目标。

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